納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。混懸液是指：以固體顆粒分散于分散媒中，顆粒與分散媒之間有相界面，稱為混懸液。
一、產(chǎn)品概述
納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機，混懸劑均質(zhì)機，納米醫(yī)藥混懸液分散機，納米高剪切分散機，納米混懸液制備設備，納米混懸液分散機，進口分散機，分散機廠家，分散機價格
二、產(chǎn)品簡介
納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。混懸液是指：以固體顆粒分散于分散媒中，顆粒與分散媒之間有相界面，稱為混懸液。
混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題。混懸液中藥物微粒分散度大 ，微粒與分散介質(zhì)之間存在著物理界面，是混懸微粒具有較高的表面自由能，混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。若要制得沉降緩慢的混懸液，應減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。
納米醫(yī)藥混懸液分散機，高剪切條件下的混懸液，高速通過工作腔定轉(zhuǎn)子間隙，由于轉(zhuǎn)子高速轉(zhuǎn)動，物料在定轉(zhuǎn)子間隙內(nèi)，高速撞擊、剪切等綜合效應，將較大的顆粒粉碎成很小的微粒，它們的直徑在0.01-2μm范圍內(nèi)。這個純粹的物理過程保持產(chǎn)品原有的活性，與此同時，細化了顆粒，獲得相對穩(wěn)定的混懸液。
三、納米高剪切分散機的特點
1具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
2該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的分散混合。
3三級分散機由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
四、GMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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